一、真空爐的真空度要求
真空爐是一種能夠在高溫下制備材料的設備，一般需求在載體（如石英管）內(nèi)部抽出氣體，以創(chuàng)造一個低壓環(huán)境。在真空爐中，真空度是一個十分要害的方針。
一般來說，真空爐的真空度要求應該在10^-5至10^-6的范圍內(nèi)，即每立方厘米的氣體分子數(shù)在這個范圍內(nèi)。一般情況下，真空度越高，材料的制備質(zhì)量就越高，因此對某些特別范疇（如航空、航天）的材料制備，真空度要求可到達10^-8乃至10^-10。
二、真空度對材料制備的影響
真空爐的真空度對材料的制備質(zhì)量有著十分重要的影響。關于一些需求高純度的材料，較高的真空度能夠有效地減少其表面吸附氣體的雜質(zhì)，然后確保材料的高純度。而較差的真空度則可能會使表面雜質(zhì)吸附在材料上，影響材料的性質(zhì)，如磁性、電導率等。
此外，關于需求高度純真的晶體生長進程，如半導體材料的制備，真空度的嚴格要求也常常是制約其產(chǎn)值和質(zhì)量的要害因素。
真空度是影響真空爐材料制備質(zhì)量的重要因素，在挑選真空爐和挑選抽氣泵時，應該根據(jù)具體情況挑選恰當?shù)恼婵斩纫螅源_保制備出的材料質(zhì)量和產(chǎn)值的穩(wěn)定進步。
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